北方华创发布国产12英寸双大马士革CCP刻蚀机

2024-03-15 11:25 光刻胶

据北方华创官微,近日,北方华创正式发布新品——12英寸电容耦合等离子体介质刻蚀机Accura LX,该机台主要覆盖逻辑领域多个技术节点中以AIO(双大马士革刻蚀工艺)、Contact(接触孔)为代表的关键介质刻蚀制程,并可扩展到存储领域的CMOS(互补金属氧化物半导体)相关制程,适用于Low-K(低介电常数)介质及常规介质材料的刻蚀工艺。
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